Ultra-hoë suiwerheidsgasse is noodsaaklik in die verskaffingsketting van die halfgeleier. In werklikheid is gasse met 'n hoë suiwerheid die grootste materiële uitgawe na silikon self. In die nasleep van die wêreldwye chiptekort brei die bedryf vinniger uit as ooit - en die vraag na hoë suiwerheidsgasse neem toe.
Die mees gebruikte grootmaatgasse in halfgeleiervervaardiging is stikstof, helium, waterstof en argon.
Nitrogeen
Stikstof maak 78% van ons atmosfeer uit en is baie volop. Dit is ook chemies inert en nie-geleidend. As gevolg hiervan het stikstof sy weg na 'n aantal nywerhede gevind as 'n koste-effektiewe inerte gas.
Die halfgeleierbedryf is 'n groot verbruiker van stikstof. Daar word verwag dat 'n moderne halfgeleiervervaardigingsaanleg tot 50.000 kubieke meter stikstof per uur sal gebruik. In halfgeleiervervaardiging dien stikstof as 'n algemene doel om gas te ineer en te suiwer, wat sensitiewe silikonwafels teen reaktiewe suurstof en vog in die lug beskerm.
Helium
Helium is 'n inerte gas. Dit beteken dat, soos stikstof, helium chemies inerte is - maar dit het ook die bykomende voordeel van hoë termiese geleidingsvermoë. Dit is veral nuttig in die vervaardiging van halfgeleiers, waardeur dit die hitte effektief van hoë-energieprosesse kan lei en dit kan help om dit teen termiese skade en ongewenste chemiese reaksies te beskerm.
Waterstof
Waterstof word breedvoerig gedurende die elektroniese vervaardigingsproses gebruik, en halfgeleierproduksie is geen uitsondering nie. In die besonder word waterstof gebruik vir:
Gloeiing: silikonwafels word tipies tot hoë temperature verhit en stadig afgekoel om die kristalstruktuur te herstel (uitgloei). Waterstof word gebruik om hitte eweredig na die wafel oor te dra en om die kristalstruktuur te herbou.
Epitaxy: Ultra-hoë suiwerheid waterstof word gebruik as 'n reduseermiddel in die epitaksiale afsetting van halfgeleiermateriaal soos silikon en germanium.
Afsetting: Waterstof kan in silikonfilms gedoop word om hul atoomstruktuur meer ongestoord te maak, wat help om weerstand te verhoog.
Plasma -skoonmaak: Waterstofplasma is veral effektief in die verwydering van tinbesoedeling uit ligbronne wat in UV -litografie gebruik word.
Argon
Argon is nog 'n edele gas, dus dit vertoon dieselfde lae reaktiwiteit as stikstof en helium. Argon se lae ionisasie -energie maak dit egter nuttig in halfgeleiertoepassings. Vanweë die relatiewe gemak van ionisasie, word argon gereeld gebruik as die primêre plasmasgas vir ets- en afsettingsreaksies in die vervaardiging van halfgeleiers. Daarbenewens word argon ook gebruik in excimer -lasers vir UV -litografie.
Waarom suiwerheid saak maak
Vooruitgang in halfgeleiertegnologie is tipies bereik deur grootte -skaal, en die nuwe generasie halfgeleiertegnologie word gekenmerk deur kleiner kenmerke. Dit lewer verskeie voordele op: meer transistors in 'n gegewe volume, verbeterde strome, laer kragverbruik en vinniger oorskakeling.
Namate die kritieke grootte afneem, word halfgeleiertoestelle egter toenemend gesofistikeerd. In 'n wêreld waar die posisie van individuele atome van belang is, is die drempels vir fouttolerance baie streng. As gevolg hiervan, benodig moderne halfgeleierprosesse prosesgasse met die hoogste moontlike suiwerheid.
WOFly is 'n hoë-tegnologie-onderneming wat spesialiseer in gasaansoekstelsel-ingenieurswese: elektroniese spesiale gasstelsel, laboratoriumgaskringstelsel, industriële gesentraliseerde gasvoorsieningstelsel, grootmaatgas (vloeistof) stelsel, hoë suiwerheidsgas en spesiale prosesgas sekondêre pypstelsel, chemiese afleweringstelsel, suiwer waterstelsel om 'n volledige stel ingenieurswese en tegniese dienste te bied en bykomende produkte, die algehele beplanning, die ontwerp, die ontwerp, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting, die toerusting gekies Van die projekterrein is die algehele stelseltoetsing, onderhoud en ander ondersteunende produkte op 'n geïntegreerde manier.
Postyd: Jul-11-2023